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                     產品中心 
                                  
            
  
            

            
	
	

	
            
    
    
            
      
            

        


 


            
  
            
    
            
      
            Microlab 科研型多功能光刻
            
    
            
    
            
      
            
        
            技術特點
            


              
	
            • 采用超長壽命LED光源（選配DPSSL紫外激光器）
              • 
	
            • 采用空間光調制無掩模直寫，可實現快速光刻
              • 
	
            • 幅面可支持4''—6''基板
              • 
	
            • 自動聚焦對準、步進式曝光、灰度曝光、激光拖曳曝光
              • 
	
            • 3D形貌等高級加工（閃耀槽型、微透鏡陣列等)
              • 
	
            • 多任務自動完成，先進結構設計，設備基本免維護
              • 

            


             
            


            
      
            
    
            
  
            


            

      
            
    
            
    
        




      
            


亚洲综合国产一区二区三区

            

              3. <button id="migds"><acronym id="migds"></acronym></button>
              

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