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Microlab 科研型多功能光刻
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Microlab 科研型多功能光刻
技術特點
采用超長壽命LED光源(選配DPSSL紫外激光器)
采用空間光調制無掩模直寫,可實現快速光刻
幅面可支持4''—6''基板
自動聚焦對準、步進式曝光、灰度曝光、激光拖曳曝光
3D形貌等高級加工(閃耀槽型、微透鏡陣列等)
多任務自動完成,先進結構設計,設備基本免維護
亚洲综合国产一区二区三区