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          1. 納米圖形光刻設備 NanoCrystal

            應用場景

              >>超材料結構特性研究
              >>納米透鏡、全息透鏡制備
              >>裸眼3D顯示的納米導光板
              >>光子晶體陣列制備
              >>裸眼3D顯示的納米尺度背光源研究
              >>其他復雜納米結構的光刻研究
              >>LED/OLED納米襯底
              >>全息圖
              >>衍射光學元件
              >>連續可變焦距菲涅爾透鏡陣列研究

             

            技術特點

              >> 位相分束模式空頻連續設定,150nm - 5μm

              >> 采用大數值孔徑紫外干涉光學系統

              >> 高速高性能,視場達到100um

              >> 飛行曝光高速光刻

              >> 3D導航自動聚焦

              >> 支持GDSII, DXF, BMP等文件格式

             

            客戶價值

              >> 亞波長尺度周期性微納結構制備

              >> 高性價比產品,占地面積小功能齊全

              >> 允許客戶有大的不平整基底,降低基材要求

             

             

            規格參數

             



             NanoCrystal特色

            1. 平鋪快速直寫:NanoCrystal實現了納米結構的快速直寫光刻功能,采用光斑平鋪光刻模式,光斑內調制納米結構分布,光刻效率比電子束快至少500倍,在陣列納米器件等研究上,NanoCrystal的光刻速率,比電子束光刻快5000倍以上,如光刻直徑20um的Fresnel透鏡陣列, 每次曝光一個透鏡,速度可達1000個/s。
            2. 納米級精度調控:獨有四參量(五軸控制系統),可調整光斑(像素)內納米結構尺度、結構取向和結構類型(直線、點陣、曲線等),納米結構調制精度達1nm。
            3. 連續結構調制:范圍00nm ~ 10um, 在355nm波長下100nm是光學方法實現的最高分辨率(100nm)。

            NanoCrystal納米光刻功能

            1. NanoCrystal具有陣列納米器件、曲線納米分布和亞納米精度的結構調控的性能。光斑內部的線寬任意可調,光斑范圍變化5微米-80微米,光斑平鋪并曝光頻率100次/s-2000次/s。
            2. 可變微納結構尺度,線寬從100nm變化到10um,調節精度:0.1nm-10nm。
            3. 可變納米結構分布:連續調控結構取向和分布。
            4. 每次光斑(像素)內結構尺度和類型均精確設定。
            5. 更換位相元件,不僅可光刻直線,同時也可實現曲線和點陣,如全息透鏡、菲涅爾透鏡陣列(可調焦點離軸位置和焦距長度)。
            6. 通過微光柵組合,可以制備各種復雜微納結構分布和器件。

                   NanoCrystal為研究納米結構器件的特性,提供了先進、高效的技術手段。尤其在超穎材料、裸眼3D顯示、光子晶體、HB-LED納米圖形襯底制備等方面,提供了實用性納米光刻工具。


                 下圖給出了不同類型納米結構光刻SEM結果照片

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