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          1. 小型激光圖形化設備Microlab

            應用場景

              >>微結構光學器件:二維和三維微結構

              >>等離子刻蝕(ICP) 掩膜、精密圖形

              >>LIGA模具

              >>微透鏡陣列

              >>二元光學器件

              >>光柵

              >>閃耀光柵

              >>衍射圖形:3D圖形, CGH(Computer Generated Hologram)

              >>列陣器件: MLA、Fresnel lens

              >>耦合器件:Outcoupling devices

             

            技術特點

              >> 無掩膜激光直寫

              >> 采用高精度DMD直寫可實現快速光刻

              >> 高精密壓電陶瓷電機,定位分辨率為10nm

              >> 自動聚焦和CCD對準,雙面對準

              >> 步進式曝光,灰度曝光 ,  激光拖曳曝光(形狀光闌積分曝光)

              >> 3D形貌等高級加工(閃耀槽型、微透鏡陣列等)

              >> 支持GDSII, DXF, BMP等文件格式

             

            客戶價值

              >> 研發周期短 , 成本低 , 使用便捷

              >> 高性價比產品,占地面積小,功能齊全

              >> 性能穩定,維護簡單已經廣泛應用于高校和科研院所

             

             

            規格參數

             


                   Microlab是小型高精度微圖形化系統,一款名副其實的微結構光刻加工"實驗室",與傳統光刻設備不同,Microlab屬于直寫系統,無需掩模板,直接將設計數據光刻成“微結構”,工藝靈活。采用四軸運動控制(X-Y-theta-Z)和空間調制(SLM)技術,具有直角坐標、極坐標和在非平基面上光刻微圖形的先進功能。 系統操作方便,支持24/7運行模式,尤其適合于MEMS、微流控、光電子、二元光學器件、光掩模、生物領域的科學研究與研究生實驗之用途。


                   系統配置上,Microlab采用雙遠心投影光學系統(tele-projection opticas)、納米級陶瓷電機驅動平臺(或直線電機)、自動光學聚焦系統(Auot-optical focusing system)、空間光調制(spatial light modulator)和像散CCD檢測系統(confocal optical inspection)、控制運行軟件。Microlab的光學分辨率500nm,極限(數據)分辨率250nm,定位分辨率10nm。


                   Microlab的曝光模式:“光斑平鋪拼接模式”,可保證光刻圖形的均云性和線寬精度;通過輸入灰度圖像,支持灰度臺階光刻(grayscale lithography)和二元光學結構的制備。還支持拖曳曝光(形狀光闌積分曝光,laser dragging),3D形貌等高級加工,實現閃耀槽型、微透鏡陣列、多臺階圖形、點陣圖形等光刻加工,支持薄膠和厚膠工藝。  


                   Microlab支持DXF,GDSII,BMP位圖文件。用戶只要有基本計算機背景和圖像知識,適當培訓后,就可上機操作,支持24小時不間斷運行,運行成本低,占地4平方米,基本免維護。

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