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                           創新中心 
                            
            
  
            

            
	
	

	
            
    
    
            
      
            

        


 


            
  
  
            
    
            
      
            微納3D光刻
            
      
    
            

    
            
      
            
        
            核心技術：微納光刻調制技術、海量數據設計與處理
            


              
	
            • 研究：光場調制光科技術
              • 
	
            • 特點：高效率、高精度
              • 
	
            • 應用：微電子、光電子、新材料
              • 

            


            


            新型光電子基礎研發手段、4"~110"系列光刻直寫設備
            
      
            
    
            
  
            
  
  
            

      
            
    
            
    
        




      
            


亚洲综合国产一区二区三区

            

              3. <button id="migds"><acronym id="migds"></acronym></button>
              

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