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微納3D光刻
核心技術:微納光刻調制技術、海量數據設計與處理
研究:光場調制光科技術
特點:高效率、高精度
應用:微電子、光電子、新材料
新型光電子基礎研發手段、4"~110"系列光刻直寫設備
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