一、研究特色

1、跨尺度微納結構制造

具有大面積微納制造工藝鏈，面向不同行業“柔性”納米制造的設計與制造能力，支持不同類型、大面積微納功能材料（器件）工程化。

全工藝路線，以卷對卷納米壓印“超薄導光器件”，超薄導光器件技術，在平板顯示、LED照明行業應用。發明了“納米導模共振結構”各向異性光變色效應，基于大尺寸納米光刻技術實現了光學可視防偽，在國家證卡上全面應用；在聚合物襯底上，實現微透鏡陣列膜，在傳感、顯示等領域獲得成功應用。

2、大幅面微納直寫關鍵技術與設備

跨尺度的微納米光刻直寫設備，攻克了多項關鍵技術，包括空間位相光聯合調制，連續變空頻的微納結構光場，納秒時序的平鋪曝光等；研制成功大幅面微納圖形化直寫設備（HoloMakerIV），實現了從100nm特征結構到50um特征結構的高效光刻。HoloMakerIV設備實現了向以色列、日本等國出口，相關設備在國內高等研究院所應用。

無掩膜紫外激光直寫光刻設備（iGrapher200-820）：0.1um-0.25um圖形分辨率，任意圖形直寫，幅面8英寸-42英寸，實現了納秒時序（光斑平鋪頻閃曝光）同步脈沖控制技術，確保了納米級定位（<50nm）和復雜結構重疊寫入的精度；3D形貌檢測與導航飛行曝光技術，克服了襯底不平整和運行抖動對圖形聚焦影響，保證了圖形寫入一致性與均勻性；空氣軸承和真空吸附平臺等應用，使得平臺精度達到行業的較好水平。因此，紫外激光無掩膜直寫設備”成為光電子器件、微納新材料研發的重要手段。

3、 納米光刻設備NanoCrystal200，HoloScanVe

高速納米光刻設備，基于專有的微納光場調制光學頭，實現了從300nm周期到10um周期（準周期）連續可變調制。300mm² -4800mm²/分鐘寫入速率。

8" 寫入面積，專有連續變空頻技術，微結構取向、空頻的連續改變！真正實現了4獨立可控變量微納米結構光刻。

NanoCrystal200納米圖形化光刻設備，為超材料、納米圖形襯底nPSS研究，提供了先進手段。

裸眼3D顯示納米光刻系統、3D全息打印系統

在技術原理上，徹底解決了3D圖像重建和打印的行業難題。其中，HoloScanV-e是這一核心技術的體現。該設備（42"）為全息顯示、3D圖像打印、裸眼3D顯示研究的關鍵設備。HoloScanV-e支持將3DMax或ACAD的三維圖像數據轉換成微納結構，直接在光刻膠干版上實現3D彩色圖像的光刻（打?。┹敵?，實現了微納結構表達3D彩色圖像，為今后3D彩色圖像印刷的工程化提供了先進的制版系統，在此基礎上，將進一步推動裸眼3D顯示、無油墨納米3D印刷技術應用和產業化。參見：基于納米技術的裸眼3D顯示的研究進展

二、微納柔性制造的應用

1、微納柔性制造工藝。包括基于卷對卷納米壓印的制造技術、工藝和設備。卷對卷熱壓設備、UV壓印設備、連續無縫納米壓印設備。從微納界面設計、精密微納光刻、LIGA模具、材料工藝、納米壓印、材料涂層特性、結構轉移，形成了一個較為完整的工藝鏈。

2、開創了卷對卷納米壓印在顯示、照明、無油墨納米印刷、高層次光學防偽、傳感器、功能器件等方面的產業應用。獲得國內外納米制造與納米壓印領域專家贊譽和肯定。

3、大尺寸觸控屏與透明導電薄膜的制造技術?；诩{米結構和納米壓印技術，研發成功大尺寸（42"）柔性電容觸控屏及其透明導電傳感器。自主建立大尺寸觸控屏的產線，大尺寸電容觸控屏具有業界更好的觸控性能，在國際著名品牌上應用。

三、工程化業績

建立了可配置、模塊化、功能器件平臺：微納結構設計與產品模塊、微納制備模塊、精密模具模塊、材料優化模塊、納米壓印模塊、功能轉移模塊、精密測試模塊等。為新型3D顯示、LED照明器件、微光學材料、光電材料的研究和開發，提供了先進的可配置的工程研究條件和產業化條件。

• 研制了“寬幅智能激光SLM光刻系統”，解決了大尺度下微納圖形化高效制造難題。
• 建立了功能模塊化的微納功能材料的中試條件。
• 建立了微納光學新器件設計、研發和測試條件。
• 與國內外著名企業合作，推動了多項成果的實施?！　?/font>