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          1. 重大任務

            產業合作-重大任務

            一、重大任務

            面向顯示、成像、照明等行業,進行工程研究與應用,產業鏈上下游參與合作。

            • 微納智能裝備與應用;

            • 大尺寸電容觸控屏及應用

            • 微納功能薄膜與應用

            • 3D光場打印系統與應用

            • 下一代裸眼3D顯示與應用

            二、重大目標產品的牽引研究

            提升重大工程技術研發能力和裝置水平,研發重大應用前景新品,突破技術瓶頸

            1、大尺寸柔性電容觸控屏工藝和產線(面向55" -84")

            2、大幅面微光學白金浮雕防偽印材和產業應用

            3、3D光場打印系統與材料(面向電子商務產品的防偽問題)

            三、面向用戶需求的解決方案研究

            研究并解決行業用戶亟需解決問題,服務于行業需求,進行行業交叉合作。

            • 超薄照明解決方案與智能手機微光學膜
            • 汽車功能薄膜裝飾件的環保工藝研究
            • 微透鏡陣列立體顯示光學膜與應用(公眾鑒別光學防偽技術與標識)

            附部分項目

             

             

            1、大幅面光學印材與防偽、3D激光打印系統

            點擊查看374x245原始圖片...技術特色:空間成像、動態3D成像、高端光學防偽

            • 3D光場成像的激光打印工藝、材料和系統
            • 微透鏡陣列空間飛行打印技術和空間成像機制
            • QR二維碼動態光學圖像打印技術。 
            • 應用:3D印刷、3D成像;激光簽證;光學防偽。

            合作模式:產學研合作,推進工業應用。


             

             

            2、LED平面照明解決方案與應用

            技術特色:(1) 采用壓印方式設計制作LED導光器件,克服了傳統工藝中的印制污染問題,可獲更好的光學品質好、導光均勻和導光效率更高、色飽和更好的大尺寸平面LED照明器件。

            主要聯合攻關:

            • 大尺寸微結構導光板納米壓印工藝與設備
            • 大尺寸微納結構模具、結構網點優化和評測。
            • 導光板個性化設計、色溫可調解決方案 
            • 幅面:TV類型的LED導光板,
            • 應用:照明、顯示行業

            已有工作基礎:32"以下的導光設計、模具制備和壓印工藝設備。

            合作模式:產業鏈上下游合作,新商業模式,共同推進大尺寸超薄導光板在LED照明、超薄TV的產業應用。


             

             

            3、大尺寸電容觸控器件的產業化。

             

            特色:采用光刻與納米壓印技術的新型透明導電觸控屏,是新一代大尺寸電容觸控顯示屏的首選。研發目標目標尺寸:55英寸觸控屏 

            • 55"以上超大觸控傳感膜的關鍵技術和裝備研發。
            • 透明導電傳感膜微米線寬的導電結構工藝、納米導電材料和特性。
            • 研究大尺寸亞微米光刻直寫新工藝。
            • 研究亞微米線寬下納米組裝新方法。
            • 研究大尺寸觸控屏集成技術與應用。
            • 應用:大屏幕觸控、工程顯示、投影屏、平板顯示等。

            合作模式:商業與產業合作,推進產業應用。


             

            4、微陣列立體顯示光學膜

            技術特色:極高分辨率的3D顯示 

            • 研究無油墨印刷的3D成像機理、極高分辨率成像工藝與設備
            • 研究雙面對準卷對卷UV納米壓印工藝。
            • 研究超薄3D裸眼顯示與成像關鍵材料制備。
            • 多功能3D顯示微納結構設計。
            • 研究微透鏡集成成像、動態光學放大、薄膜化顯微鏡的制備工藝。
            • 應用:3D顯示、動態空間成像、背光增亮、高層光學防偽。陣列納米檢測儀器。

            合作模式:產業鏈合作。


            5、高光效定向擴散光學薄膜

             

             

            技術特色:將擴散與增亮功能合二為一,實現上下光場的有效壓縮,提供顯示亮度。主要攻關:

            • 新型定向擴散膜的結構設計、制備工藝,微結構形貌對光場散射的影響評價。
            • 光效提升:垂直光場壓縮1倍以上,擴散光效提升一倍以上,用于便攜式平板電腦、大型定向擴散投影屏;
            • 真彩色3D全息投影屏:垂直擴散大于水平擴散,用于多投影儀的3D投影真彩色立體顯示

            合作模式:上下游產業合作、產學研合作。共同研發和市場推廣。


             

             

            6、LED納米圖形光刻系統及nPSS應用
            • 研究納米圖形襯底nPSS(300nm-800nm)光刻、ICP蝕刻、外延工藝。解決納米圖形的大視場拼接和快速光刻直寫。
            • 推進納米圖形襯底nPSS的工程研究。
            • NanoCrystal-8的300nm以上周期點陣的快速光刻能力。
            • 應用:LED外延;太陽能電池;OLED增亮等;科學研究。

            合作模式:產業鏈合作,平臺建設。

             

            7、超大幅面微納圖形化系統研制(江蘇省高技術重點實驗室)

            研究海量數據的傳輸與上載技術,千兆數據傳輸和TGB內存緩存技術。研究248nm深紫外波長下的光學器件的特性提升與系統集成。

            • 目標:65nm納米節點跨尺度微納圖形高速直寫。 
            • 應用:大尺寸微米精度的光掩膜、微納結構制備、顯示掩膜制備。

             

             

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