隨著節能環保的需求，光電子器件朝著超薄、柔性、可穿戴、觸控化和3D顯示方向發展?！拔⒓{柔性制造”成為光電子功能材料與器件、3D成像與納米印刷的支撐性技術，是下一代光電子顯示、傳感產品、柔性電子裝備的重要研究領域。面向行業需求，1、為客戶提供“更薄、更耐性、特色顯著和設計靈活”新材料與功能器件。2、研究共性關鍵技術與核心裝備，探索高性能傳感、3D顯示成像的功能材料與器件的機理與制備；提升市場競爭力。3、研究成套裝備，新產品、促進成果產業化，孵化新企業。
1、納米柔性制造（Micro/nano flexible manufacturing for industries）。研究建立柔性制造工藝技術平臺，雙面對準UV壓印設備中試，解決3D與成像印刷的關鍵技術裝備、大尺寸超薄3D成像薄膜、納米隱性水印薄膜、功能光學膜的生產工藝，實現產業應用。
- 2、微納圖形直寫裝備(micro/nano patterning & manufacturing)。研究跨尺度微納方法和系統集成。研究微納智能制造， 攻克高速飛行曝光納米檢測、微納米混合光刻難題，實現跨尺度納米結構高效光刻。研制空間位相聯合調制儀器
3、顯示照明器件(micro/nano technologies for display & lighting)：研發平板顯示光學膜（導光、導電、3D定向擴散等）、大尺寸電容觸控傳感器，提升納米壓印和納米組裝技術，推進在超大平板電腦、智能手機和大尺寸觸控面板的應用。
4、微納功能薄膜（nano-surface engineering）。研究微納結構界面與光（電）的相互作用規律和特性。 提供顯示成像的功能器件的解決方案，納米結構色，裸眼3D成像、納米濾光片、偏振膜等新產品。
- 三、中心構架
中心設立的工程研究和技術應用部門
- 設計部：重點研發：立體成像與裸眼3D光學設計、納米陷光、偏振和彩色化納結構；微透鏡陣列成像設計方法；功能微納米器件應用，光學視讀解決方案、納光變色膜、3D彩色圖像、高端可視化防偽技術。
- 系統與軟件部：著重推進：大幅面無掩膜光刻、納米光刻、高率微納直寫方案（海量數據處理與傳輸）和LED納米圖形化光刻設備。高端激光直寫系統與軟件，超大幅面圖形快速制造。納米光刻工程化設備。
- 顯示照明部：研究3D顯示材料、超薄導光器件、大尺寸電容觸控傳感器、增亮膜等高光效器件。重點攻關平板電腦LED平面照明解決方案、工程化研發、卷對卷制程。
- 柔性制造工藝部：研究卷對卷納米壓印關鍵工藝（一致性、批量性）、研發全息立體制版（光刻）關鍵技術與設備，新型3D印刷包材，實現無油墨綠色納米印刷技術。雙面UV納米壓印工藝，推進微納轉移工藝，推進AMOS光學放大膜產業化。
- 四、國內外交流和產學研合作
蘇大維格與蘇州大學“光學工程”博士點學科共建了“數碼激光成像與顯示教育部工程研究中心”、“江蘇省數碼激光圖像與新型印刷工程技術研究中心”?！敖K省先進光學制造高技術重點實驗室”、“江蘇省產學研聯合培養研究生示范基地”。
長期以來，堅持研發與應用相結合，“中心”在跨尺度微納制造關鍵技術與裝備、UV柔性納米壓印、微納界面功能設計與器件應用等方面，實現了多項關鍵技術突破，功能研究能力具有行業先進水準，在國內外具有廣泛影響。 全國人大副委員長陳至立為蘇大維格的題詞：堅持科技創新，為經濟社會發展提供支撐。
全國人大副委員長、前中科院院長路甬祥、江蘇省羅志軍書記、原省委常委蘇州市委書記王榮、蘇州市市長閻立；江蘇省省長，原科技部黨組書記李學勇、副部長曹建林、全國僑聯主席林軍等領導，前來視察和調研。新加坡科技局主席林泉寶博士、俄羅斯科學院院士等也來蘇大維格公司訪問考察。
蘇大維格工程研究中心是國內運行較好的產學研合作平臺之一，在微納柔性制造與納米器件研發應用上形成特色。國內外學者、專家、國家、省部領導多次視察，給予贊賞與高度評價。
全國人大副委員長路甬祥、江蘇省領導視察（中） 新加坡科技局主席一行來訪（右）
五、發中心展歷程
經江蘇省發改委批準，2007年，蘇大維格成立“江蘇省數碼激光成像與顯示工程技術中心”(Center for Digital Optical Imaging & Displaying,JS)，對平板顯示、LED照明技術，面向需求和行業共性問題，進行產業技術開發?！ ?/font>
經江蘇省科技廳、財政廳批準，2010年，蘇大維格組建“江蘇省微納柔性制造工程技術研究中心”（Center for Nano Flexible Manufacturing, JS ）。
2011年，國家地方聯合工程研究中心（National Engineering Research Center）獲國家發改委批準掛牌?！按蠓婕す飧缮婀饪讨睂懷b置”、“大幅面精密激光光刻/刻蝕實驗室”、“精密微納模具與電鑄實驗室”、“納米壓印實驗室”、“大口徑衍射光學器件實驗室”、“大幅面光刻膠涂布實驗室”、“導光與增亮器件實驗室”。
工程研究設施：柔性制造與材料中試線(大型涂布系統、蒸鍍設備、轉移設備、刻蝕設備、納米壓印設備)；大尺寸微納圖形化系統與器件中試線。擁有大型微納圖形光刻設備、紫外激光直寫設備、3D激光全息制版光刻設備、無掩膜光刻直寫設備、激光刻蝕設備、感應離子刻蝕設備、光子晶體直寫設備、納米組裝設備、超薄導光生產與中試線、UV柔性制造中試線；光、機、電、算、新材料工藝一體化研究與實驗條件。配備了3D掃描儀、臺階儀、原子力顯微鏡、亮度色度儀、影像測試儀、光譜儀、尼康高倍顯微鏡、ICP，RIE，光刻機和系列型號激光光源。