聯合光場調制的3D混合直寫光刻構架

亞納米精度結構光場光刻，高密度納米結構制備，波長短、精度高、并行加工，空間光調制
任意結構500nm，位相調制特征結構100nm，單次處理300MB數據僅需1.5秒。